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膜技術(shù)在電子工業(yè)純水制造中的應(yīng)用

  
評論: 更新日期:2012年08月05日

一、純水在電子元器件生產(chǎn)中的作用

  純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中,高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對水質(zhì)的要求也不同。

  在電解電容器生產(chǎn)中,鋁箔及工作件的清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電。在電子管生產(chǎn)中,電子管陰極涂敷碳酸鹽,如其中混入雜質(zhì),就會影響電子的發(fā)射,進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等,就會降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力,并會造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水,每生產(chǎn)一個顯像管需用純水80kg[1]。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì),就會使液晶顯示電路發(fā)生故障,影響液晶屏質(zhì)量,導(dǎo)致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表1。

表1?? 顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)

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?

項(xiàng)目單位
電阻率
MΩ·cm
(25t)
細(xì)菌
個/ml
微粒
個/ml
TOC
mg/L
Na+
μg/L
K+
μg/L
Cu
μg/L
Fe
μg/L
Zn
μg/L
黑白顯像管
彩色顯像管
液晶顯示器
≥5
≥5
≥5 
≤5
≤1
≤1
≤10(Φ>0.5μ)
≤10(Φ>1μ)
≤10(Φ>1μ)
≤0.5
≤0.5
≤1
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10
≤8
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10

?

  在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片,水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結(jié)耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導(dǎo)體特性惡化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導(dǎo)體特性惡化[2],水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞[3],水中的顆粒(包括細(xì)菌)如吸附在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。集成電路生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表2。

表2? 集成電路(DRAM)對純水水質(zhì)的要求[4][5][6]

?

?

集成電路(DRAM)集成度
16K
64K
256K
1M
4M
16M
相鄰線距(μm)
4
2.2
1.8
1.2
0.8
0.5
微粒
直徑(μm)
0.4
0.2
0.2
0.1
0.08
0.05
個數(shù)(PCS/ml)
<100
<100
<20
<20
<10
<10
細(xì)菌(CFU/100ML)
<100
<50
<10
<5
<1
<0.5
電阻率(μs/cm,25℃)
>16
>17
>17.5
>18
>18
>18.2
TOC(ppb)
<1000
<500
<100
<50
<30
<10
DO(ppb)
<500
<200
<100
<80
<50
<10
Na+(ppb)
<1
<1
<0.8
<0.5
<0.1
<0.1

?

  二、膜技術(shù)在純水制造中的應(yīng)用

  純水制造中應(yīng)用的膜技術(shù)主要有電滲析(ED)、反滲透(RO)、納濾(NF)、超濾(UF)、微濾(MF),其工作原理、作用等見表3。

表3? 純水制造中常用的膜技術(shù)

?

?

膜組件名稱
ED
RO
NF
UF
MF
微孔孔徑
?
5-50埃
15-85埃
50-1000埃(1μm)
0.03-100μm
工作原理
離子選擇透過性
1.優(yōu)先吸附-毛細(xì)管理論
2.氫鏈理論
3.擴(kuò)散理論
同左
濾膜篩濾作用
同左
作用
去除無機(jī)鹽離子
??? 去除無機(jī)鹽離子,以及有機(jī)物、微生物、膠體、熱源、病毒等
??? 去除二價、三價離子,M>100的有機(jī)物,以及微生物、膠體、熱源、病毒等
??? 去除懸濁物、膠體以及M>6000的有機(jī)物
去除懸濁物
組件形式
膜堆式
??? 大多為卷式,少量為中空纖維
同左
??? 大多為中空纖維,少量為卷式
??? 摺迭濾筒式
工作壓力(Mpa)
0.03-0.3
1-4
0.5-1.5
0.1-0.5
0.05-0.5
水回收率(%)
50-80
50-75
50-85
90-95
100
使用壽命(年)
3-8
3-5
3-5
3-5
3-6個月
水站位置
除鹽工序
除鹽工序
1.除鹽工序
2.RO前的軟化
??? 大多為純水站終端精處理,少數(shù)為RO前的預(yù)處理
1.RO、NF、UF前的保安過濾(3-10μm)
2.離子交換后濾除樹脂碎片(1μm)
3.UV后濾除細(xì)菌死體(0.2或 0.45μm)
4.純水站終端過濾(0.03-0.45μm)

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