本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用于先進(jìn)集成電路光刻工藝綜合評(píng)估的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試圖形單元的形狀、一般尺寸,以及推薦的布局和設(shè)計(jì)規(guī)則,這些標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試圖形包括可供光學(xué)顯微鏡和掃描電子顯微鏡用的各種圖形單元。
本標(biāo)準(zhǔn)適用集成電路的工藝、常規(guī)掩模版、光致抗蝕劑和光刻機(jī)的特征和能力作出評(píng)價(jià)及交替移相掩模版相位測(cè)量,適用于g線、i線、KrF、ArF等波長的光刻設(shè)備及相應(yīng)的光刻工藝。
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