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硅片表面光澤度的測(cè)試方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào)： GB T 42789-2023
替代情況：
發(fā)布單位： 國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局 國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位： 上海合晶硅材料股份有限公司、麥斯克電子材料股份有限公司、廣東金灣高景太陽(yáng)能科技有限公司等
發(fā)布日期： 2023-08-06
實(shí)施日期： 2024-03-01
點(diǎn) 擊 數(shù)：
更新日期： 2023年09月19日
內(nèi)容摘要

本文件描述了采用光反射法以20°、60°或85°幾何條件測(cè)試硅片表面光澤度的方法。 ?
本文件適用于硅腐蝕片、拋光片、外延片表面光澤度的測(cè)試，不適用于表面有圖形的硅片的測(cè)試。

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