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硅片表面薄膜厚度的測試 光學(xué)反射法

標(biāo) 準(zhǔn) 號: GB/T 40279-2021
替代情況:
發(fā)布單位: 國家市場監(jiān)督管理總局 國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
起草單位: 有研半導(dǎo)體材料有限公司、山東有研半導(dǎo)體材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司
發(fā)布日期: 2021-08-20
實(shí)施日期: 2022-03-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2021年10月08日
內(nèi)容摘要

本文件規(guī)定了采用光學(xué)反射法測試硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。
本文件適用于測試硅片表面生長的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度,也適用于所有光滑的、透明或半透明的、低吸收系數(shù)的薄膜厚度的測試,如非晶硅、氮化硅、類金剛石鍍膜、光刻膠等表面薄膜。測試范圍為15 nm~105 nm。

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