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用區(qū)熔法和光譜分析法評(píng)價(jià)顆粒狀多晶硅的規(guī)程

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 35309-2017
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 江蘇中能硅業(yè)科技發(fā)展有限公司、新特能源股份有限公司、天津市環(huán)歐半導(dǎo)體材料技術(shù)有限公司
發(fā)布日期: 2017-12-29
實(shí)施日期: 2018-07-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2018年06月04日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用區(qū)熔法和光譜分析法評(píng)價(jià)顆粒狀多晶硅的代位碳原子濃度、施主雜質(zhì)濃度和受主雜質(zhì)濃度的方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于尺寸在600μm~3000μm的顆粒狀多晶硅,其他尺寸的顆粒狀多晶硅可參照本標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行。

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