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微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)技術(shù) 基于光學(xué)干涉的MEMS微結(jié)構(gòu)殘余應(yīng)變測量方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號: GB/T 34900-2017
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
起草單位: 中機(jī)生產(chǎn)力促進(jìn)中心
發(fā)布日期: 2017-11-01
實(shí)施日期: 2018-05-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2018年04月15日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了基于光學(xué)干涉顯微鏡獲取的微雙端固支梁結(jié)構(gòu)表面形貌進(jìn)行殘余應(yīng)變測量的方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于表面反射率不低于4%且使用光學(xué)干涉顯微鏡能夠獲取表面形貌的微雙端固支梁結(jié)構(gòu)。

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