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原子力顯微鏡測量濺射薄膜表面粗糙度的方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào)： GB/T 31227-2014
替代情況：
發(fā)布單位： 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位： 上海交通大學(xué)、納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心
發(fā)布日期： 2014-09-30
實(shí)施日期： 2015-04-15
點(diǎn) 擊 數(shù)：
更新日期： 2017年12月08日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用原子力顯微鏡(AFM)測量表面粗糙度的方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于測量濺射成膜方法生成的、平均粗糙度Ra 小于100nm 的薄膜。
其他非濺射薄膜的表面粗糙度的測量可以參考此方法。

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