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牙釉質(zhì)電子順磁共振劑量重建方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號: GBZ/T 172-2006
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國衛(wèi)生部
起草單位: 中國疾病預(yù)防控制中心輻射防護(hù)與核安全醫(yī)學(xué)所
發(fā)布日期: 2006-03-13
實(shí)施日期: 2006-10-01
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更新日期: 2018年01月15日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用牙釉質(zhì)EPR劑量重建時(shí)所涉及的儀器設(shè)備、牙釉質(zhì)制備、EPR波譜測量、劑量估算以及不確定度表述。
本標(biāo)準(zhǔn)不適用于急、慢性外照射所致過量受照人員的牙齒吸收劑量重建。適用的吸收劑量范圍:0.5~300Gy;輻射及其能量范圍:>200keV的光子輻射。
本標(biāo)準(zhǔn)不適用于內(nèi)照射的劑量估算。

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