本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空鍍膜顯現(xiàn)手印技術(shù)的原理、設(shè)備、鍍膜材料及實驗室環(huán)境要求、顯現(xiàn)準(zhǔn)備、操作步驟及注意事項等。本標(biāo)準(zhǔn)適用于顯現(xiàn)大多數(shù)非滲透性及部分半滲透、滲透性客體表面潛在手印，包括部分“502”膠熏顯后的客體等。