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硅襯底中氮濃度的二次離子質譜測量方法

標 準 號: SJ/T 11493-2015
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國工業(yè)和信息化部
起草單位: 工業(yè)和信息化部電子工業(yè)標準化研究院
發(fā)布日期: 2015-04-30
實施日期: 2015-10-01
點 擊 數(shù): 99 5
更新日期: 2021年04月09日
內容摘要

本標準規(guī)定了用二次離子質譜法(SIMS)對硅襯底單晶體材料中氮總濃度的測試方法。

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