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硅襯底中氮濃度的二次離子質譜測量方法
標 準 號:
SJ/T 11493-2015
替代情況:
發(fā)布單位:
中華人民共和國工業(yè)和信息化部
起草單位:
工業(yè)和信息化部電子工業(yè)標準化研究院
發(fā)布日期:
2015-04-30
實施日期:
2015-10-01
點 擊 數(shù):
99
5
更新日期:
2021年04月09日
內容摘要
本標準規(guī)定了用二次離子質譜法(SIMS)對硅襯底單晶體材料中氮總濃度的測試方法。
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碳化硅單晶拋光片表面質量的測試方法
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