本標準規(guī)定了硅烷氣體的技術要求、試驗方法、標志、包裝、貯運及安全的內(nèi)容。
本標準適用于硅化鎂法、氫化鋁鈉還原四氟化硅法、氯硅烷歧化工藝法制備的電子工業(yè)用硅烷。 ?它主要用于制作高純多晶硅、二氧化硅的低溫化學氣相淀積、氮化硅化學氣相淀積、多晶硅隔離層、多晶硅歐姆接觸層和異質(zhì)或同質(zhì)硅外延生長原料以及離子注入源和激光介質(zhì)等，還可用于制作太陽能電池、光導纖維和光電傳感器等。
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