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表面化學(xué)分析 工作參考物質(zhì)中離子注入產(chǎn)生的駐留面劑量定值的推薦程序

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 34174-2017
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所、中國(guó)石化石油化工科學(xué)研究院、國(guó)家納米科學(xué)中心
發(fā)布日期: 2017-09-07
實(shí)施日期: 2018-08-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2017年12月11日
內(nèi)容摘要

對(duì)表面分析用的工作參考物質(zhì)(WoRM)中離子注入原子序數(shù)大于硅的分析物元素,本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了對(duì)其駐留面劑量進(jìn)行定值的程序。WoRM為組成均勻的、標(biāo)稱直徑不小于50 mm的拋光(或類似磨面)基片(也稱作基片),并已離子注入一種基片上不存在的某種化學(xué)元素的同位素(也稱作分析物),其標(biāo)稱面劑量范圍通常為1016 atoms/cm2至1013 atoms/cm2(即半導(dǎo)體技術(shù)中最感興趣的范圍)。WoRM晶片中離子注入分析物的面劑量,是通過與二級(jí)參考物質(zhì)(SeRM)硅片中注入相同分析物的駐留面劑量比較而進(jìn)行定值的。本標(biāo)準(zhǔn)提供了WoRM定值的概念和程序方面的信息。同時(shí)也有對(duì)參考物質(zhì)要求、比較測(cè)量和實(shí)際定值的描述。離子注入、離子注入劑量術(shù)、波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜和無法得到SeRM時(shí)的無證替代物的補(bǔ)充材料見附錄A到附錄D。定值過程中產(chǎn)生的不確定度來源和數(shù)值見附錄E。

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