本標準規(guī)定了一種準確測量硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的方法,即X 射線光電子能譜法(XPS)。本標準適用于熱氧化法在硅晶片表面制備的超薄氧化硅層厚度的準確測量;通常,本標準適用的氧化硅層厚度不大于6nm。
花生黃曲霉毒素檢測抽樣技術(shù)規(guī)程頁巖氣 地震資料處理解釋和預測要求頁巖氣 氣井試氣作業(yè)規(guī)范地熱鉆井鉆頭使用基本規(guī)則和磨損評定…地熱廢棄井及長停井處置規(guī)范頁巖氣 頁巖損失氣量的計算方法地熱測井資料處理解釋規(guī)程水熱型地熱尾水回灌技術(shù)規(guī)程
常用化學危險品貯存通則【作廢】工業(yè)管道的基本識別色、識別符號和安…氣瓶顏色標志【作廢】危險化學品從業(yè)單位安全標準化通用規(guī)范常用危險化學品的分類及標志【作廢】紡織工業(yè)企業(yè)安全管理規(guī)范化工企業(yè)安全衛(wèi)生設(shè)計規(guī)定【作廢】危險化學品貯存通則
