本標準規(guī)定了電感耦合等離子體質譜法（ICP-MS）測定硅片表面金屬元素含量的方法。
本標準適用于硅單晶拋光片和硅外延片表面痕量金屬鈉、鎂、鋁、鉀、鈣、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅元素含量的測定，測定范圍為108 cm-2～1013cm-2。本標準同時也適用于硅退火片、硅擴散片等無圖形硅片表面痕量金屬元素含量的測定。